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1200℃ 三温区PECVD等离子体化学气相沉积系统 OP-1200-TS3-Z4D-PE

OP-1200-TS3-Z4D-PE是一款三温区1200℃的等离子体化学气相沉积系统，该设备由射频电源、1200℃三温区管式炉、多通道质子混气系统和真空系统组成。此款PECVD系统可广泛应用于生长纳米线、石墨烯及薄膜材料领域。

13306218658keyite@126.com

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